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日本理学连续波长色散X射线荧光光谱仪

简要描述:日本理学连续波长色散X射线荧光光谱仪ZSX Primus 400专为处理非常大或重的样品而设计,非常适合分析溅射靶材、磁盘,或用于多层薄膜计量或大型样品的元素分析。

  • 产品型号:ZSX Primus 400
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2024-04-09
  • 访  问  量:477

详细介绍

品牌Rigaku/理学行业专用类型地质岩矿
价格区间面议仪器种类台式/落地式
应用领域化工,石油,地矿,冶金,汽车

日本理学连续波长色散X射线荧光光谱仪ZSX Primus 400产品描述:

Rigaku ZSX Primus 400 连续波长色散 X 射线荧光 (WDXRF) 光谱仪专为处理非常大或重的样品而设计。该系统可接受直径最大为 400 毫米、厚度为 50 毫米和质量为 30 千克的样品,非常适合分析溅射靶材、磁盘,或用于多层薄膜计量或大型样品的元素分析。

连续波长色散X射线荧光光谱仪

优点:

带有定制样品适配器系统的 XRF,适应特定样品分析需求的多功能性,可使用可选适配器插件适应各种样品尺寸和形状。凭借可变测量点(直径 30 毫米至 0.5 毫米,具有 5 步自动选择)和具有多点测量的映射功能以检查样品均匀性。

具有可用相机和特殊照明的 XRF,可选的实时摄像头允许在软件中查看分析区域。

仍保留了传统仪器的所有分析能力。

安全性:

采用上照射设计,样品室可简单移出,再不用担心污染光路,清理麻烦和增加清理时间等问题。

应用领域:

固体、液体、粉末、合金和薄膜的元素分析。

溅射靶材组成。

隔离膜:SiO2、BPSG、PSG、AsSG、Si₃N₄、SiOF、SiON等。

高 k 和铁电介质薄膜:PZT、BST、SBT、Ta2O5、HfSiOx。

金属薄膜:Al-Cu-Si、W、TiW、Co、TiN、TaN、Ta-Al、Ir、Pt、Ru、Au、Ni等。

电极膜:掺杂多晶硅(掺杂剂:B、N、O、P、As)、非晶硅、WSix、Pt等。

其他掺杂薄膜(As、P)、困惰性气体(Ne、Ar、Kr等)、C(DLC)。

铁电薄膜、FRAM、MRAM、GMR、TMR;PCM、GST、GeTe。

焊料凸点成分:SnAg、SnAgCuNi。

MEMS:ZnO、AlN、PZT的厚度和成分。

SAW器件工艺:AlN、ZnO、ZnS、SiO 2(压电薄膜)的厚度和成分;Al、AlCu、AlSc、AlTi(电极膜)。

日本理学连续波长色散X射线荧光光谱仪ZSX Primus 400技术参数:

大样本分析:最大 400 毫米(直径),最大 50 毫米(厚度),高达 30 千克(质量)

样品适配器系统,适用于各种样本量

测量点:30 毫米至 0.5 毫米直径,5步自动选择

映射能力,允许多点测量

样品视图相机(可选)

分析范围:Be - U

元素范围:ppm 至 %

厚度范围:sub Å 至 mm

衍射干扰抑制(可选):单晶衬底的准确结果

符合行业标准:SEMI、CE标志

占地面积小,以前型号的 50% 占地面积

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